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平面拋光機的新出路,新機會和新挑戰

放大字體  縮小字體 發布日期:2019-06-20 14:53:36   來源:方達   作者:方達小編  發布人:fangda   瀏覽次數:11
核心提示:國內目前風起云涌的半導體發展風已經在民間迅速蔓延,以硅片為代表的各個供應鏈生產廠家正在緊鑼密鼓地籌備,希望將半導體在中國
國內目前風起云涌的半導體發展風已經在民間迅速蔓延,以硅片為代表的各個供應鏈生產廠家正在緊鑼密鼓地籌備,希望將半導體在中國做起來,提升芯片行業的技術。
平面拋光機正好也是半導體技術發展中必不可少的一個重要環節,硅片的打磨和拋光在整個硅片工藝中非常重要,硅片的厚度需要打磨,硅片表面的光潔度需要拋光來解決。所以這兩個工藝是決定半導體技術改革是否成功的關鍵。
而平面拋光機行業此刻正遭遇新一輪的洗牌,傳統的平面拋光機隨著廠家越來越多,技術越來越透明,所能帶來的利潤也逐漸微薄。如何能突破瓶頸發展新的商機已是迫在眉睫。而國家扶持半導體的相關政策出來后,隨著硅片生產廠商的積極響應,也給平面拋光機生產廠家帶來了新的契機。
目前以方達為首的平面拋光機廠家已經開始研發硅片磨拋技術,主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。但是在機會之余,我們也面臨一些問題和挑戰,相對國外而言,我們的技術是比較落后的,要想盡快有所成就還需要先向日本,德國等地學習,然后在此基礎上進行改良和完善,以適用我們國內的生產環境。
 
關鍵詞:

平面拋光機

半導體

硅片打磨拋光

 

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